EDITORIAL / 专题阅读

作品参加ART 021 上海当代艺术博览会谢谢西馬画廊，团队为此做了充分的准备，精细的安排和布局，㊗️大卖！新的系列《被复制的统一表情》，自2023年首发以来，一路受到学术界认可：Top20中国当代摄影新锐展2025，北京国际摄影周Top10 2024，青年艺术100 20

新浪网于2025年11月17日发布的相关报道，主题为“作品参加ART 021 上海当代艺术博览会谢谢西馬画廊，团队为此做了充分的准备，精细的安排和布局，㊗️大卖！新的系列《被复制的统一表情》，自2023年首发以来，一路受到学术界认可：Top20中国当代摄影新锐展2025，北京国际摄影周Top10 2024，青年艺术100 20”，内容涉及青年创作者、新锐项目与新近实践。本页保留来源与发布时间，完整信息请前往原报道核对。

发布时间

2025年11月17日

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新浪网

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